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horiba數(shù)字式壓力控制器UR-Z714M IGS 14W3

  • 產(chǎn)品型號:UR-Z714M-B
  • 更新日期:2025-03-02

簡要描述:UR-Z714M-B是horiba數(shù)字式壓力控制器UR-Z714M IGS 14W3中的暢銷款,
模塊化的IGS接口形式。
控制該壓力控制器前端的壓力。
多用于消除后端壓力波動對前端腔體壓力的影響,又被稱為:入口控制型。

控制壓力范圍20-950KPa,
Devicenet數(shù)字通訊
接口IGS IGS 14W3

產(chǎn)品詳情

horiba數(shù)字式壓力控制器UR-Z714M IGS 14W3

控制壓力范圍0.02Bar-9.5Bar, DeviceNet數(shù)字通訊, IGS接口

暢銷型號:UR-Z712M-B、UR-Z722M-B、UR-Z732M-B、UR-Z714M-B、UR-Z724M-B、UR-Z734M-B、UR-Z717M、UR-Z717-B、GR-312F、GR-317F、GR-511F、GR-224FD。

UR-Z714M-B是UR-Z700系列的暢銷款,控制該壓力控制器前端的壓力,數(shù)字式DeviceNet通訊,可以選擇IGS管路接口,也可選擇1/4"MVCR接口。

horiba數(shù)字式壓力控制器UR-Z714M IGS 14W3 是UR-Z714M-B的模塊化接口IGS形式。節(jié)省控制尺寸,實現(xiàn)管路的模塊化設計。

概述

HoribaSTEC UR-Z700系列是高性能自動壓力控制器,又稱UPC,帶有高精度壓力傳感器和高分辨率、快速響應的壓電閥。根據(jù)接收到的外部控制信號控制壓力。

UR-Z712M、UR-Z722M、UR-Z732M、UR-Z712M-B、UR-Z722M-B、UR-Z732M-B、支持模擬輸出和RS485通訊

UR-Z714M、UR-Z724M、UR-Z734M、UR-Z714M-B、UR-Z724M-B、UR-Z734M-B 支持DeviceNet™ 通訊模式。

UR-Z717M、UR-Z727M、UR-Z737M、UR-Z717M-B、UR-Z727M-B、UR-Z737M-B 支持EtherCAT通訊模式。

產(chǎn)品性能:

· 分兩種應用:入口控制型(-M-B 型)和出口控制型

· 消除大流量氣路切換引起的串擾影響(出口控制型)

· 快速響應:0.5 秒內(nèi)

· 靈活的設計:可以安裝在任何位置,適用于各種氣體供應系統(tǒng)

· 進氣壓力多種選擇:表壓、絕對壓力

· 符合 RoHS 標準(UR-Z704 系列)

· 超潔凈:全金屬結(jié)構(gòu)


參數(shù)表

horiba數(shù)字式壓力控制器UR-Z714M IGS 14W3

產(chǎn)品背面圖


horiba數(shù)字式壓力控制器UR-Z714M IGS 14W3



horiba數(shù)字式壓力控制器UR-Z714M IGS 14W3

應用案例


周邊產(chǎn)品



horiba數(shù)字式壓力控制器UR-Z714M IGS 14W3


Horiba品牌介紹:

HORIBA是全球著名的半導體設備供應商,主要提供氣體質(zhì)量流量控制器、液體質(zhì)量流量控制器、壓力控制器、汽化器。在半導體設備PECVD、MOCVD、Etch等關(guān)鍵工藝有非常廣泛的應用。




壓力控制器暢銷型號

UR-Z712M-B、UR-Z722M-B、UR-Z732M-B、UR-Z714M-B、UR-Z724M-B、UR-Z734M-B、GR-312F、GR-317F、GR-511F、GR-224FD。


horiba數(shù)字式壓力控制器UR-Z714M IGS 14W3 配套的有 質(zhì)量流量計,質(zhì)量流量控制器

暢銷型號:

SEC-D500、SEC-Z700X、SEC-Z700S

進口高性能數(shù)字型號: SEC-Z512KX、SEC-Z512MGX、SEC-Z522MGXN、SEC-Z532MGX、SEC-Z514KX、SEC-Z514MGX、SEC-Z524MGXN、SEC-Z534MGXSEC-Z517MGX

SEC-Z527MGXN.


液體質(zhì)量流量控制器:LV-F20PO、LV-F30PO、LV-F30PO、LV-F40 POLV-F50 PO、LV-F60PO、

液體質(zhì)量流量計LF-F20MLF-F30M、LF-F40MLF-F60M。


用于質(zhì)量流量計標定的皂膜流量計SF-1U、SF-2U。


horiba數(shù)字式壓力控制器UR-Z714M IGS 14W3在MOCVD中的應用。

電力電子領(lǐng)域的許多行業(yè)使用金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)作為激光二極管、LED和半導體制造的標準工藝。MOCVD工藝是一種可控的合成方法,它使用了多種MO源,如三甲基銦(TMI)和二乙基鋅(DEZ),需要一種穩(wěn)健的傳遞方法,以確保沉積過程的重復性和高收率。MOCVD系統(tǒng)利用起泡器汽化,從而控制MO源濃度、生長時間和生長速率。部分MO源用載氣流帶出源瓶,并從起泡器流向腔室。在這個過程中捕獲的MO源的濃度必須是已知的,而且最重要的是必須具有重復性,以提供最大的工藝效率。實現(xiàn)這一目標需要精確、快速和理想的過程變量的閉環(huán)控制,包括氣體流量、溫度和壓力。


HORIBAMOCVD產(chǎn)品組合為MOCVD沉積工藝的所有變化提供了解決方案,包括高精度熱質(zhì)量流控制器(MFC)SEC-Z512、背壓壓力控制器UR-Z714M-B和非色散紅外光譜(NDIR)濃度監(jiān)視器,已被證明可用于挑戰(zhàn)性的MOCVD應用。HORIBA還提供了一種干涉測量終點監(jiān)測技術(shù),可應用于關(guān)鍵工藝環(huán)境。




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